通過(guò)用于高級(jí)半導(dǎo)體制造的完整解決方案來(lái)提高工藝良率。

在半導(dǎo)體生產(chǎn)車間中，微污染會(huì)帶來(lái)巨大的問(wèn)題。捷霖凈化提供了廣泛的解決方案-顆粒預(yù)過(guò)濾器，HEPA和ULPA過(guò)濾器以及AMC控制解決方案-可以將無(wú)塵室中的顆粒物和分子濃度降低到顆粒物的ISO 1級(jí)水平和AMC的亞ppb水平。

AMC過(guò)濾器和控制比無(wú)塵室過(guò)濾更重要

空氣傳播的分子污染（AMC）對(duì)小尺寸半導(dǎo)體制造提出了特殊挑戰(zhàn)。酸，堿，有機(jī)物，耐火材料和摻雜劑的不良化學(xué)反應(yīng)會(huì)影響晶片表面和工藝設(shè)備的光學(xué)器件，從而在芯片生產(chǎn)過(guò)程中產(chǎn)生缺陷，并降低設(shè)備和工具的效率。

在關(guān)鍵的潔凈室制造過(guò)程中，AMC越來(lái)越重要。隨著規(guī)格要求的提高和設(shè)備尺寸的縮小，過(guò)程控制面臨巨大的壓力。晶圓可以在工廠內(nèi)呆上一個(gè)月的時(shí)間，在交付最終產(chǎn)品之前要經(jīng)過(guò)數(shù)百個(gè)過(guò)程。該工藝鏈中任何微小的污染影響都可能對(duì)晶圓廠的整體成品率造成嚴(yán)重影響。

另一個(gè)挑戰(zhàn)在于更大尺寸的晶圓的普遍化，這增加了單個(gè)晶圓的成本，并增加了在工具級(jí)別對(duì)納米顆粒和AMC保護(hù)的需求。此外，EUV和多圖案DUV光刻中使用的無(wú)缺陷掩模的成本不斷上漲，這給設(shè)施以及小型環(huán)境（如檢查設(shè)備和掩模庫(kù)存機(jī)）的污染控制系統(tǒng)帶來(lái)了壓力。

保護(hù)您的工藝設(shè)備和晶圓免受納米顆粒和空氣中的分子污染物的侵害

捷霖凈化解決方案在半導(dǎo)體制造環(huán)境中提供了經(jīng)過(guò)現(xiàn)場(chǎng)和實(shí)驗(yàn)室驗(yàn)證的保護(hù)，包括光刻，蝕刻，擴(kuò)散，金屬化，薄膜，離子注入，檢查工具以及標(biāo)線片或晶圓存儲(chǔ)區(qū)。

工藝工具空氣濾清器

潔凈室空氣過(guò)濾器

掃描儀預(yù)過(guò)濾系統(tǒng)

設(shè)施系統(tǒng)的節(jié)能高效排氣解決方案

廣州捷霖凈化的顆粒物預(yù)過(guò)濾器系列可確保在補(bǔ)充空氣處理機(jī)組中使用最低的能量，同時(shí)防止HEPA過(guò)濾器堵塞并且不釋放硼。經(jīng)過(guò)多年的膠粘劑和介質(zhì)化學(xué)性能的發(fā)展，捷霖凈化的HEPA和ULPA過(guò)濾器旨在釋放出盡可能少的有機(jī)污染物（所謂的低放氣）。用于晶圓切割的排氣系統(tǒng)以及用于通用排氣備用系統(tǒng)的氣體洗滌器可以保護(hù)環(huán)境免受工藝污染。

無(wú)硼合成預(yù)濾器

低能量預(yù)過(guò)濾器

低放氣的HEPA和ULPA過(guò)濾器

灰塵收集器和氣體洗滌器，可產(chǎn)生更清潔的廢氣